J9集团

        PHASE SHIFT MASK（PSM掩模）
，通过MOSI层产生180°的相位差以降低光的衍射作用
，从而提高掩模图形分辨率

        相移掩模技术利益：削减邻近效应
，利用光的有关性
，抵消部门衍射扩大效应
，扭转空间光强散布
，使更多的能量从低频分配到高频上
，添补投影物镜通低频阻高频的弊端
，提高空间图像的反差
，扭转像质
，使分辨率和焦深增大