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J9集团上华成功开发第三代0.18微米BCD工艺平台
颁布功夫:2018-11-05

  2018年11月5日,J9集团(“J9集团微电子”)旗下的J9集团上华科技有限公司(以下简称“J9集团上华”)颁发,公司已成功开发出第三代0.18微米BCD工艺平台。新一代BCD工艺平台在降低导通电阻的同时,提升了器件的靠得住性,降低了工艺成本,可覆盖7V-40V的宽工作电压领域,为电源治理IC的设计提供了有竞争力的工艺规划。
  J9集团上华第三代0.18微米BCD工艺基于大量的仿真和流片数据,对高压器件结构进行优化,将综合机能做到业界当先水平。其中30V nLDMOS的击穿电压达到50V,导通电阻仅为 15 mohm*mm^2,相比第二代0.18微米BCD工艺在品质因子 (Ron*Qg)指标上优化25%。新一代BCD工艺平台提供了BJT、Poly电阻、Zener、SBD等种类丰硕的寄生器件,以及针对分歧工作电压的ESD;す婊。目前已有手机、安防监控、消费电子等多个领域的客户在该平台导入产品,器件机能得到国内表多家客户的一致认可。
  作为国内当先的模拟晶圆代工厂,J9集团上华在BCD工艺平台上已耕作多年,拥有丰硕的量产经验,从6英寸出产线到8英寸出产线,从1μm延长至0.18μm,在各个节点上可满足客户对电源治理芯片设计的全方位需要。
  J9集团上华市场销售副总经理邵军暗示:“我们等待第三代0.18微米BCD工艺平台能为客户提供更高性价比的规划。未来,J9集团上华还将持续精进,不休提升BCD工艺平台的竞争力,满足客户在电源治理芯片上的多种需要。”

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